工业水浸超声 C 扫描技术深度研究报告:原理、应用与未来趋势(1)
一、技术概述与发展历程
1.1 基本原理与技术特点
工业水浸超声 C 扫描技术是一种先进的无损检测技术,其基本原理基于超声波在不同介质中传播时产生的反射、折射和散射现象。该技术将被检测物体完全或部分浸入水中,利用水作为耦合介质,将超声波有效地传递到被测样品内部,从而实现对内部缺陷、分层、气泡、裂纹等异常情况的高精度检测。
其核心原理为:
1 超声波传播与反射:当超声波束穿透水介质进入被测材料时,遇到缺陷 (如裂纹、气孔、分层) 或材料界面会发生反射,反射波携带缺陷信息返回探头。
2 成像技术:通过收集反射波信号,系统生成脉冲波形并转化为二维或三维图像,准确显示缺陷位置、大小及形态。
3 水浸耦合优点:水作为超声传播介质,避免了固体界面反射干扰,同时提供均匀声场,提升检测稳定性。
水浸超声 C 扫描技术的主要特点包括:
1. 无损检测:无需破坏被检测物体,即可获取其内部信息,具有非常高的无损检测能力。
2. 高精度成像:通过调整超声波的频率和波束宽度等参数,可以实现高精度成像,分辨率高且图像清晰。
3. 二维成像:超声 C 扫描技术可以实现二维成像,可以直观地显示被检测物体的内部结构,提高了检测效率和准确性。
4. 多模式检测:支持反射式检测和透射式检测两种主要模式,前者适用于表面及近表面缺陷检测,后者通过分析透射波的衰减和相位变化检测内部缺陷。
1.2 发展历程与技术演进
工业水浸超声 C 扫描技术的发展可以追溯到 20 世纪中叶,其发展历程可分为以下几个关键阶段:
1 早期探索阶段 (20 世纪 50-70 年代):水浸式超声 C 扫描系统起源于 20 世纪中叶,最初主要应用于军事领域。当时,该技术主要用于检测军事装备零部件的内部缺陷,以确保装备的可靠性和安全性。这一阶段的技术特点是设备体积庞大、操作复杂、成像质量有限。
2 技术发展阶段 (20 世纪 80-90 年代):随着电子技术和计算机技术的发展,水浸超声 C 扫描技术逐渐从军事领域拓展到工业、医疗、科研等多个领域。在工业领域,它开始被用于检测金属材料、复合材料等的内部缺陷,以及焊接质量等。这一时期,系统的自动化程度和成像质量有了显著提高。
3 数字化与智能化阶段 (21 世纪初 - 2020 年):进入 21 世纪后,随着计算机技术、数字信号处理技术和图像处理技术的飞速发展,水浸超声 C 扫描技术实现了数字化和智能化的重大突破。系统开始具备 A/B/C/D 同时成像能力,图像处理算法也日益完善。
4 全面创新阶段 (2020 年至今):2020 年以来,水浸超声 C 扫描技术进入了全面创新阶段。安赛斯新一代水浸超声 C 扫描系统,源自美国的优秀超声波检测系统,支持 A/B/C/D 同时成像,同时支持全波形存储,实现离线分析,并且能够在不重新扫查的基础上,通过调节闸门位置,实现二次 C 扫成像。
近年来,水浸超声 C 扫描技术的发展主要体现在以下几个方面:
1. 高频超声波应用:采用 5MHz 以上高频超声波,通过压电陶瓷传感器将电信号转换为超声波,经声学透镜聚焦后作用于被测样品。
2. 三维成像技术:从传统的二维 C 扫描成像发展为三维体成像,能够更直观地显示材料内部结构。
3. 曲面仿形技术:软件可实现曲面仿形,并自动计算出扫查路径,完成复杂异形曲面工件的检测并成像。
4. 全波形存储与分析:支持全波形存储,实现离线分析,并且能够在不重新扫查的基础上,通过调节闸门位置,实现二次 C 扫成像。
5. 智能算法应用:搭载智能成像算法,可将缺陷检出灵敏度提升至传统超声的 8 倍。
二、系统组成与工作原理
2.1 核心设备与系统架构
工业水浸超声 C 扫描系统主要由以下核心设备组成:
1. 超声换能器:将电能转换成超声波振动,再转换成电信号接收反射回来的声波。是超声 C 扫描系统的核心部件,直接影响成像质量。
2. 数据采集卡:负责接收超声换能器传输的电信号,并进行模数转换,将模拟信号转换为数字信号,以便计算机进行后续处理。
3. 机械运控系统:负责控制超声换能器的移动和旋转,确保扫描的准确性和稳定性,包括步进电机、导轨、丝杠等部件。
4. 超声探伤仪:系统可配备常规超声探伤仪和相控阵超声探伤仪,是产生和接收超声波信号的关键设备。
5. 扫描分析软件:如 UTwin 等专业软件,负责控制扫描过程、处理采集的数据并生成 C 扫描图像。
水浸超声 C 扫描系统的工作流程主要包括以下步骤:
1. 发射超声波:超声换能器发射超声波,通过耦合剂进入被检测物体内部。
2. 超声波传播与反射:超声波在物体内部传播,遇到不同介质界面时发生反射、折射等现象。
3. 接收回波信号:反射的超声波被超声换能器接收,并转换成电信号。
4. 信号处理与成像:对接收到的电信号进行放大、滤波等处理,通过计算机算法进行成像处理,得到被检测物体的内部结构图像。
水浸超声 C 扫描系统的性能主要由以下参数决定:
1. 分辨率:指超声 C 扫描系统能够区分两个相邻物体的最小距离,分为轴向分辨率和横向分辨率,与超声频率、换能器特性、声束宽度等因素有关。
2. 扫描速度:指超声换能器在被检测物体表面移动的速度,影响扫描效率。
3. 步进量:指超声换能器在每次移动时沿某一方向移动的最小距离,影响扫描的密度和成像质量。
2.2 水浸耦合技术的优势与特点
水浸耦合技术是工业水浸超声 C 扫描技术的关键特点,与传统的接触式超声检测相比,具有以下显著优势:
1. 避免固体界面反射干扰:水作为超声传播介质,避免了固体界面反射干扰,同时提供均匀声场,提升检测稳定性。
2. 提高耦合效率:水浸耦合方式能够确保超声能量高效地传输到被测物体中,减少了因接触不良导致的信号损失。
3. 适应复杂形状工件:水浸耦合技术不受工件表面形状的限制,能够对复杂曲面、异形工件进行全面检测。
4. 保护探头和工件:水浸环境可以降低探头与工件表面的摩擦,延长探头使用寿命,同时避免对工件表面造成损伤。
5. 多模式检测能力:支持反射式检测和透射式检测两种模式,前者适用于表面及近表面缺陷检测,后者通过分析透射波的衰减和相位变化检测内部缺陷。
水浸超声 C 扫描系统通常采用以下几种耦合方式:
1. 完全水浸式:将被检测物体完全浸入水中,适用于对检测要求较高、形状复杂的工件。
2. 局部水浸式:只将被检测部位浸入水中,适用于大型工件或不适合完全水浸的情况。
3. 水幕式:通过水幕将超声能量传输到工件表面,适用于连续生产线的在线检测。
(本文未完,待续)
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